純水設備系統(tǒng)故障診斷及化學清洗一覽表
|
故障 |
位置 |
原因 |
驗證 |
處理方法 |
||
|
濃縮水 |
純化水 流量 |
壓力降 |
||||
|
正常到增多 |
減少 |
正常到增多 |
主要在第一段 |
金屬氧化物污染了膜 |
分析清洗液中的金屬氧化物 |
改進預處理，以去除金屬氧化物，用酸性清洗液清洗 |
|
正常到增多 |
減少 |
增加 |
主要在第一段 |
膠體污染 |
測試原水中的SDI |
優(yōu)選預處理，以去除膠體物質，用高PH值的陰離子清洗液清洗膜 |
|
增大 |
減少 |
增加 |
主要在最后一段 |
結垢（SiO2，CaSO4，BaSO4CaCO3） |
分析清洗液中的金屬離子，檢查去除液中LSI指數(shù)及CaSO4，BaSO4及SiO2的溶解度 |
增加酸性添加劑和防垢劑；減少回收率，用酸性清洗液清洗 |
|
正常到增多 |
減少 |
正常到增多 |
任何一段 |
生物污染 |
測試純水及去除液中細菌數(shù)量 |
增加亞硫酸氫鈉；降低PH值并連續(xù)加入亞硫酸氫鈉；甲醛殺菌；加氯除氯，更換預濾芯 |
|
減少或輕微增加 |
減少 |
正常 |
所有段中 |
有機物污染 |
破壞性試驗 |
加活性碳或其它預處理，用高PH值清洗液清洗膜 |
|
增加 |
增加 |
減少 |
第一級最嚴重 |
游離氯氧化 |
分析原水中的氯，做膜的破壞性試驗 |
檢查加氯設備及除氯系統(tǒng) |
|
增加 |
增加 |
減少 |
第一級最嚴重 |
晶體物質對膜的磨損 |
對原水進行顯微鏡固體分析，做破壞性試驗 |
改進預處理；檢查所有過濾器 |
|
增加 |
正常到增多 |
減少 |
任何一段 |
O型圈泄漏、密封泄漏 |
測試 |
更換O型圈，修理或更換膜 |
|
增加 |
正常到增多 |
減少 |
所有段中 |
回收率過高 |
按設計要求，檢查流量和壓力 |
減少回收率，檢查軟化器 |
純水設備，實驗室純水設備, 無錫純水設備,無錫水處理設備，無錫去離子水設備, 醫(yī)用GMP純化水設備。 半導體超純水設備。
- 上一篇：純水設備系統(tǒng)的正確使用方法 2021/4/29
- 下一篇：RO純水設備系統(tǒng)常見故障及處理 2021/4/27
